多功能镀膜系统满足研究所和研发部门对真空薄膜沉积的性能要求，占用空间小，具有超高的性价比，可以向客户提供优质的服务。

MBE 系统根据蒸发源的类型和数量以及基板大小，可提供不同的标准衬底尺寸：直径300mm、直径450mm 和 直径570mm（根据要求的其他尺寸）。

TPD系统用于测量超薄薄膜吸附/脱吸的独立系统，能够在较宽温范围内进行高精度温度控制。

快速退火炉，采用革新的加热技术，可实现真正的基底温度测量，不需要采用传统快速 退火炉的温度补偿，温度控制精确，温度重复性高，客户包括国际上许多半导体公司及科研团队，是半导体制程退火工艺的理想选择。

超高真空多腔室物理气相沉系统由全球专业的沉积设备商制造,配置多种沉积方式(预留各种功能接口),高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研.。

超高真空磁控溅射系统，衬底支架符合最大300mm直径的晶片需求，并可对晶片加热至850°C及加载RF偏压。磁控溅射系统可按客户需求增减其他窗口用于诸如残余气体分析（RGA）、反射高能电子衍射（RHEED)或椭偏仪（ellipsometry）。

纳米颗粒和薄膜的模块化PVD系统是一种多功能的 PVD 系统，能够生成纳米颗粒和薄膜，非常适合工业和学术研究。NL-FLEX 能够容纳任何类型的基材，包括卷对卷、非平面和粉末涂料。服务于广泛的应用，包括催化、光子学、储能、传感器和生命科学。这种模块化 PVD 沉积系统可以与分析工具集成，为您的研究需求提供定制的解决方案。

纳米颗粒和薄膜UHV沉积系统，服务于广泛的应用，包括催化、光子学、储能、传感器和生命科学。该UHV 沉积系统可以与分析工具集成，为您的研究需求提供定制的解决方案。