快速退火炉，采用革新的加热技术，可实现真正的基底温度测量，不需要采用传统快速 退火炉的温度补偿，温度控制精确，温度重复性高，客户包括国际上许多半导体公司及科研团队，是半导体制程退火工艺的理想选择。

超高真空多腔室物理气相沉系统由全球专业的沉积设备商制造,配置多种沉积方式(预留各种功能接口),高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研.。

超高真空磁控溅射系统，衬底支架符合最大300mm直径的晶片需求，并可对晶片加热至850°C及加载RF偏压。磁控溅射系统可按客户需求增减其他窗口用于诸如残余气体分析（RGA）、反射高能电子衍射（RHEED)或椭偏仪（ellipsometry）。

纳米颗粒和薄膜的模块化PVD系统是一种多功能的 PVD 系统，能够生成纳米颗粒和薄膜，非常适合工业和学术研究。NL-FLEX 能够容纳任何类型的基材，包括卷对卷、非平面和粉末涂料。服务于广泛的应用，包括催化、光子学、储能、传感器和生命科学。这种模块化 PVD 沉积系统可以与分析工具集成，为您的研究需求提供定制的解决方案。

纳米颗粒和薄膜UHV沉积系统，服务于广泛的应用，包括催化、光子学、储能、传感器和生命科学。该UHV 沉积系统可以与分析工具集成，为您的研究需求提供定制的解决方案。

台式纳米颗粒沉积系统（纳米团簇），专为共享研究或教学实验室而设计，学生和研究人员可以在各种纳米技术项目中并行使用，而不必担心交叉污染。应用包括催化、光子学、储能、传感器和生命科学。

脉冲激光沉积系统，基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差3%，加热时基板可旋转，工作环境最大压力是300mtorr。

脉冲激光分子束外延系统主要配置：主腔室，样品传输腔，1100度加热系统，样品旋转，PLD靶材操控器及光路，K-cell热蒸发源，电子束蒸发源，射频RF离子源。