狭缝挤出型涂布机，适用于高精度大面积表面涂布，平板型或 卷对卷涂布。应用领域：大学科研，柔性基板，触摸屏等。

派瑞林真空镀膜机，用于隔热的门加热器：最高 200 °C。汽化温度设置：最多 10 步（温度和时间）。

等离子体增强化学气相沉积，通常选用射频淋浴源(RF)或带有不规则气体分布的空心阴极射频等离子体源作为反应源产生等粒子体。

等离子体增强原子层沉积系，原子层沉积是在一个加热反应的衬底上连续引入至少两种气相前驱体源，化学吸附至表面饱和时自动终止，适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。一个基本的原子层沉积循环包括四个步骤：脉冲A，清洗A，脉冲B和清洗B。沉积循环不断重复直至获得所需的薄膜厚度，是制作纳米结构从而形成纳米器件较佳的工具。

MOKE系统：超高真空系统用于对超薄磁膜和多层电子束蒸发的薄膜沉积进行现场实时磁光克尔效应研究。

多功能镀膜系统满足研究所和研发部门对真空薄膜沉积的性能要求，占用空间小，具有超高的性价比，可以向客户提供优质的服务。

MBE 系统根据蒸发源的类型和数量以及基板大小，可提供不同的标准衬底尺寸：直径300mm、直径450mm 和 直径570mm（根据要求的其他尺寸）。

TPD系统用于测量超薄薄膜吸附/脱吸的独立系统，能够在较宽温范围内进行高精度温度控制。