卷对卷脉冲激光沉积系统（高温超导带材镀膜）是一款经过现场验证的卷对卷（Reel-to-Reel）脉冲激光沉积（PLD） 工具，专为ReBCO型高温超导带材的连续镀膜设计。系统工作波长为308 nm（XeCl准分子-激光器），由客户自备的LEAP激光器提供能量。整套系统集成了*的胶带传输、精确张力控制、均匀加热和高精度真空技术，旨在满足高性能超导带材的研发与中试生产需求。

高温超导带材离子束辅助沉积系统（IBAD）是一套经过现场验证的、用于高温超导（HTS）带材制备的离子束辅助沉积（IBAD）工具。其主要工艺是通过离子束辅助沉积技术，在低成本、柔性的金属基带上制备出具有特定双轴织构的氧化镁（MgO）缓冲层，为后续沉积高性能的钇钡铜氧（YBCO）超导层奠定基础。该技术消除了对昂贵的单晶或RABiTS织构金属基板的需求，是实现高性能、低成本高温超导带材产业化的关键设备。

我司致力于为科研与规模化生产提供更为优异的卷对卷（R2R）薄膜沉积解决方案。我们的脉冲激光沉积（PLD）系统专为REBCO涂层导体的高质量、高效率生产而设计，卷对卷脉冲激光沉积系统 高温超导带材镀膜集成了数十年的技术积淀与创新工艺，是推动超导技术从实验室走向产业化的主要装备。

狭缝挤出型涂布机，适用于高精度大面积表面涂布，平板型或 卷对卷涂布。应用领域：大学科研，柔性基板，触摸屏等。

派瑞林真空镀膜机，用于隔热的门加热器：最高 200 °C。汽化温度设置：最多 10 步（温度和时间）。

等离子体增强化学气相沉积，通常选用射频淋浴源(RF)或带有不规则气体分布的空心阴极射频等离子体源作为反应源产生等粒子体。

等离子体增强原子层沉积系，原子层沉积是在一个加热反应的衬底上连续引入至少两种气相前驱体源，化学吸附至表面饱和时自动终止，适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。一个基本的原子层沉积循环包括四个步骤：脉冲A，清洗A，脉冲B和清洗B。沉积循环不断重复直至获得所需的薄膜厚度，是制作纳米结构从而形成纳米器件较佳的工具。

MOKE系统：超高真空系统用于对超薄磁膜和多层电子束蒸发的薄膜沉积进行现场实时磁光克尔效应研究。