MDE-200SC全自动光刻机是一款MIDAS公司新开发的产品，代表了下一代全区域光刻系统。这一新型半自动化对准曝光平台具有更高的重复光刻精度以及更可靠的操作，非常适合陶瓷及其他探针卡应用，同时MDA-12SA型半动化光罩对准曝光机具有更高的生产能力和容易操控。

MDA-80MS光刻机产地：韩国MIDAS公司，唯1能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比。

SPIN-3000A匀胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。匀胶机可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蚀中也被广泛使用。

MDA-40FA/60F光刻机，操作简单，PLC操作，PC控制，图像采集和数据记录，100多个程序配方，显微镜位置控制系统，自动对齐标记搜索功能。

MINILAB匀胶显影热板系统，组成：旋涂机（Spin-1200T）、热板、D.I水系统。尺寸：1300（宽）*750（深）*1800（高）。

THU SERIES纳米压印，科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代，我们愿意化为一座桥梁，见证中国科技水平的提升，与中国科技共同飞速成长。

SPIN-5000/70匀胶机，适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。匀胶机可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蚀中也被广泛使用。

MDA-400M-6光刻机，广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。