高精度激光直写光刻机，是一个用于直接CAD到基板精确图案化的系统。它既可以用作通用图案化工具，也可以用作满足特定研究或生产需求的专业系统。

UV-LED曝光系统，适用于MEMS、微流体、光子学、半导体和光伏应用中使用的各种基板和光刻胶。我们的标准UV照明产品系列满足了300毫米宽（11.8英寸）掩模和晶片的光刻需求。

NANO IMPRINT纳米压印，既可以作为纳米压印系统，也可以作为传统的掩模对准器，同时为您的整个压印过程提供可编程的自动控制。

SPIN-1200T匀胶机，适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。匀胶机可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蚀中也被广泛使用。

SPIN-4000A匀胶机，触摸屏控制，可编程配方管理，操作简单，采用排液、排液孔、分液器。

紫外激光直写光刻机，用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西，从光掩模到基础科学或应用科学的研究原型，集成相机可以用来调整现有的功能写。

MDA-400M光刻机，易于操作和安装，处理各种尺寸的基板，带触摸屏面板的PLC控制。

无掩膜光刻机, 激光直写系统是一个高价值的直写激光光刻机系统，面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。 它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西，从光掩模到基础科学或应用科学的研究原型，集成相机可以用来调整现有的功能写。