激光直写无掩膜光刻机紫外光直写曝光 ，无需掩模，大幅节约了掩模加工费用，灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整，可升级开放性系统设计，按照客户要求自由配置，使用维护简单, 设备耗材价格低，应用范围广，目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。

spin coater匀胶机既在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。

mask aligner半自动光刻机该公司是目前世界上早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

匀胶机，旋涂仪其工作原理是高速旋转基片, 利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上, 厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同, 也和旋转速度及时间有关。

是一个高价值的直写激光光刻机系统，面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。 它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西，从光掩模到基础科学或应用科学的研究原型，集成相机可以用来调整现有的功能写。 我们对其进行了优化，以便于使用和简单维护，最大限度地利用现成的部件，而不牺牲书写质量或功能。

SNR负性光刻胶，针对微机械加工微电子应用，高对比度，环氧树脂类负性光刻胶。 具有垂直侧壁的高纵横比成像 近紫外（350-400nm）处理 单旋涂膜厚度为1.5至200µm 高度耐化学性和耐温度性 与已建立的SU-8光刻工艺兼容 PR Coat ▶ SNR可用于7种基本粘性（SNR C5、C7、C10、C15 C25、C50、C75），每个涂层厚度可通过spin curve查看。

紧凑型滚筒纳米压印机 我们的桌面R2P纳米打印机是原型设计，实验和产品开发的理想工具。 台式R2P纳米压印机单元适用于小规模纳米压印光刻工作。该设备是快速原型制作、测试和表征结构特性的理想选择，其中包括使用光固化树脂和压印材料。 ​典型应用范围从压印、片上实验室到衍射光学元件和其他纳米压印结构。桌面R2P纳米打印机在其受保护的环境中工作。

全自动光刻机 公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机，是韩国*家研发并商业化光罩对准曝光机的企业，始终致力于不断完善、增强技术型企业的核心竞争力。