负性光刻胶 （SU-8）-光刻机用 SNR负性光刻胶，针对微机械加工微电子应用，高对比度，环氧树脂类负性光刻胶。 具有垂直侧壁的高纵横比成像 近紫外（350-400nm）处理 单旋涂膜厚度为1.5至200µm 高度耐化学性和耐温度性 与已建立的SU-8光刻工艺兼容

纳米压印-光刻机 紧凑型滚筒纳米压印机 我们的桌面R2P纳米打印机是原型设计，实验和产品开发的理想工具。 台式R2P纳米压印机单元适用于小规模纳米压印光刻工作。该设备是快速原型制作、测试和表征结构特性的理想选择，其中包括使用光固化树脂和压印材料。 ​典型应用范围从压印、片上实验室到衍射光学元件和其他纳米压印结构。桌面R2P纳米打印机在其受保护的环境中工作。

全自动光刻机 公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机，是韩国*家研发并商业化光罩对准曝光机的企业，始终致力于不断完善、增强技术型企业的核心竞争力。

纳米压印系统-光刻机 介绍了一个台式、独立的纳米压印平台。该平台提供了一个带有微型定位夹具的机械平台，用于安装纳米压印室、紫外线固化

硅穿孔工艺设备-光刻机 晶圆和晶圆之间制作垂直导通，实现芯片之间互连的新技术。能够使芯片在三维方向堆叠的密度大，芯片之间的互连线短，外形尺寸小，并且大大改善芯片速度和低功耗的性能，使目前电子封装技术中引人注目的新技术。

狭缝挤压型涂布仪-匀胶机 狭缝挤压型涂布仪夹缝式挤压型涂布仪（Slot Die Coater）可以用于可复制重复性测试。归功于桌面小型化的设计。它也可以大幅降低材料损耗。客户通过快速的多样化测试来获得更多客观结果。

无掩膜曝光机-光刻机 美国IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术，已成为无掩模紫外光刻领域的。国内参考用户较多！

匀胶机、旋涂仪（德国产、高性能）SPIN150i单片匀胶机/旋涂仪具有广泛应用，包括 甩干，冲洗，清洁，涂胶。台式设计，无缝全塑料材质， 有天然聚丙烯（NPP）和聚四氟乙烯材质（PTFE）可选。有各种吸盘，适合样品衬底5mm--?160mm （or 6”） or 4“x4“. 更大尺寸均有！！