电子束蒸发源-真空组件 电子束蒸发源对于使用常用热蒸发技术非常难蒸发的材料,电子束蒸发是一种有效的蒸发手段.通过高能电子束射向靶材来升高靶材温度.相比于通常辐射或间接电阻加热方式,使用这种方式来达到温度没有本质的限制。

磁控溅射靶源-真空组件 我司提供的磁控溅射源是目前一和超高真空系统（1e-11torr）匹配的商业用溅射源。 在不配置弹性垫圈的结构中，可烘烤至250℃。在匹配的超高真空环境下，可以实现超高纯度的溅射沉积。

IIG2离子源-超高真空 典型应用是氩离子溅射清洗表面（中科院物理所配置多套IG2型离子源） 溅射清洗 /表面准备，用于表面科学， MBE ，高真空溅射过程 离子辅助沉积 离子束溅射镀膜 反应离子刻蚀

真空腔体水气解吸附组件 Zcuve是近年来上较多使用的水蒸气解吸技术。*的设计可从2.75“扩展到8”法兰尺寸，具有比例较高的紫外线功率因数

半球电子能量分析器-真空组件 半球电子能量分析器半径: 120mm 反转角度: 180 deg.

磁控溅射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空组件 磁控溅射源/靶枪（1英寸/2英寸/3英寸）我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1“, 2“ and 3“. 以及矩形靶枪 安装法兰口径：NW63CF，NW100CF 真空腔体内长度范围：150-400mm 真空腔体内端面直径：60-96 靶材直径： 1“, 2“ and 3“ 靶材大厚

真空腔体水气解吸附组件2 ZCUVE代表了水蒸气解吸技术的新进展。*的设计可从2.75“扩展到8”法兰尺寸，紫外线功率因数w按比例增加

射频离子/原子源（可转换）-真空组件 射频离子源：用于离子束沉积，离子束辅助沉积，MEMS 射频原子源：用于合成氧化物，氮化物，氢原子清洗